| 发明名称 | 含有经巯基修饰的聚硅氧烷的防反射被膜形成用涂布液 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种对未经表面处理的基材也能很好地密合而显示出优良的耐擦伤性且具有低折射率、低雾度、高透射率的防反射被膜形成用涂布液，该涂布液的制造方法，用该涂布液得到的固化膜及防反射膜，以及具有该固化膜的防反射基材。该防反射被膜形成用涂布液的特征在于，含有聚硅氧烷(A)，所述聚硅氧烷(A)是具有巯基的有机基团通过硅氧烷键与聚硅氧烷(a)的主链结合而成的聚硅氧烷。 | ||
| 申请公布号 | CN101652442A | 申请公布日期 | 2010.02.17 |
| 申请号 | CN200880011429.3 | 申请日期 | 2008.04.09 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 岛野亮介;元山贤一;根木隆之 |
| 分类号 | C09D183/08(2006.01)I;C09D5/00(2006.01)I;G02B1/11(2006.01)I | 主分类号 | C09D183/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 范 征;胡 烨 |
| 主权项 | 1.一种防反射被膜形成用涂布液，其特征在于，含有聚硅氧烷(A)，所述聚硅氧烷(A)是具有巯基的有机基团通过硅氧烷键与聚硅氧烷(a)的主链结合而成的聚硅氧烷。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||