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发明名称 METHOD FOR MAKING A SEMICONDUCTOR STRUCTURE USING SILICON GERMANIUM
摘要
申请公布号 EP1751791(A4) 申请公布日期 2010.02.03
申请号 EP20050732886 申请日期 2005.04.05
申请人 FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC. 发明人 ORLOWSKI, MARIUS K.;BARR, ALEXANDER L.;SADAKA, MARIAM G.;WHITE, TED R.
分类号 H01L21/31;H01L21/316;H01L21/321;H01L21/8238;H01L21/84;H01L27/12;H01L29/10 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
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