| 发明名称 | 对包含金属的表面采用卤素和卤化物盐类的平面化方法 | ||
| 摘要 | 一种平面化方法，其中包括提供包含金属的表面(优选包含VIII族金属的表面，更优选包含铂的表面)，在包括卤素和卤化物盐的平面化组合物存在下，将其放到与抛光表面接触的位置上。 | ||
| 申请公布号 | CN100582189C | 申请公布日期 | 2010.01.20 |
| 申请号 | CN02825848.7 | 申请日期 | 2002.12.17 |
| 申请人 | 微米技术有限公司 | 发明人 | B·A·瓦尔茨特拉 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | C09G1/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 卢新华;段晓玲 |
| 主权项 | 1.一种平面化方法，其中包括：将基片的包含金属的表面放到与抛光表面的界面上，其中包含金属的表面包括一种选自VIIIB族、IB族和它们的组合的金属；在界面附近提供平面化组合物；和使基片表面平面化；其中平面化组合物包括一种包含卤素的化合物和卤化物盐，该包含卤素的化合物和卤化物盐被单独供给，其中包含卤素的化合物选自F2、Cl2、Br2、I2、ClBr、IBr、ICl、BrF、ClF、ClF3、BrF3、ClF5、IF5、IF7、XeF2、和它们的组合。 | ||
| 地址 | 美国爱达荷州 | ||