投影设备

摘要

本发明说明了一种投影设备，其具有光调制器以及至少一个光源，所述光调制器具有光接收区域，所述光接收区域具有大小为A_M的待照亮的横截面和对于入射光的最大接收角α，借助所述光源在其工作时产生用于照亮光接收区域的横截面的光锥，并且所述光源具有数量为N的发光二极管芯片，所述发光二极管芯片具有最大辐射角β。所述发光二极管芯片中的至少一个具有大小为A_D的辐射耦合输出面。适用关系式0.7*(A_M*sin²(α))/(A_D*sin²(β)*n²)≤N≤1.3*(A_M*sin²(α))/(A_D*sin²(β)*n²)，其中n等于1或者等于发光二极管芯片所设置的耦合介质的折射率。

主权项

1.一种投影设备，具有光调制器以及至少一个光源，所述光调制器具有光接收区域，所述光接收区域具有大小为AM的待照亮的横截面和对于入射光的最大接收角α，借助所述光源在工作时产生用于照亮所述光接收区域的横截面的光锥，并且所述光源具有数量为N的发光二极管芯片，所述发光二极管芯片具有大小为AD的辐射耦合输出面和最大辐射角β，其特征在于，-在所述发光二极管芯片与所述光调制器之间的光路中设置有至少一个光学元件，-在所述发光二极管芯片与所述光学元件之间的光路中存在间隙，所述间隙填充有气体，-所述发光二极管芯片的辐射耦合输出面AD没有耦合介质，并且-0.7*(AM*sin2(α))/(AD*sin2(β)*n2)≤N≤1.3*(AM*sin2(α))/(AD*sin2(β)*n2)，其中n＝1。