光阻体剥离剂组成物及半导体元件之制造方法

摘要

本发明的光阻体剥离剂组成物系含有：胺化合物、及由下式(Ⅰ)或(Ⅱ):(式中，R1、R2及R3系如说明书中所定义)所表示的化合物、与上述式(Ⅰ)之R1为烯基之化合物所构成聚合物所构成组群中，至少选择其中一种的烷醇胺化合物。藉由使用上述光阻体剥离剂组成物，便将蚀刻后所残留的光阻膜、及灰化后的光阻残渣，在不致腐蚀配线材料等情况下，极轻易的进行剥离。

主权项

一种光阻体剥离剂组成物，其特征在于含有40～78重量%之胺化合物、以及选自下式(I)所示化合物：(式中，R1系指H、C1-C6烷基；R2系指H；R3系指H、C1-C6烷基；该烷醇醯胺化合物对该胺化合物的重量比为0.04～0.14。