发明名称 | 化学气相沉积设备及其晶舟 | ||
摘要 | 本实用新型公开了一种化学气相沉积设备,包括炉管和放置于所述炉管内的晶舟,所述晶舟包括第一端部和与所述第一端部相对的第二端部,在所述第一端部和第二端部之间具有多个相互平行的、用于放置晶片的晶片插槽,且每个所述晶片插槽具有至少两个相互分离、用于支撑晶片的支撑架,其中,每一个所述支撑架所在的平面向所述第一端部所在的平面倾斜第一角度。本实用新型还公开了对应的一种应用于化学气相沉积设备的晶舟。采用本实用新型的化学气相沉积设备及其晶舟,可以有效解决晶片在化学气相沉积后水平检测不过关的问题。 | ||
申请公布号 | CN201347452Y | 申请公布日期 | 2009.11.18 |
申请号 | CN200820123067.4 | 申请日期 | 2008.10.21 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 | 发明人 | 赵星;翟立君 |
分类号 | C23C16/44(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 董立闽;李 丽 |
主权项 | 1、一种化学气相沉积设备,包括炉管和放置于所述炉管内的晶舟,所述晶舟包括第一端部和与所述第一端部相对的第二端部,在所述第一端部和第二端部之间具有多个相互平行的、用于放置晶片的晶片插槽,且每个所述晶片插槽具有至少两个相互分离、用于支撑晶片的支撑架,其特征在于:每一个所述支撑架所在的平面向所述第一端部所在的平面倾斜第一角度。 | ||
地址 | 100176北京市经济技术开发区文昌大道18号 |