Abgasbehandlungsvorrichtung für eine CVD-Vorrichtung, CVD-Vorrichtung sowie Abgasbehandlungsverfahren

摘要

Die Erfindung betrifft eine Abgasbehandlungsvorrichtung (9) für eine CVD-Vorrichtung (1) zum Abscheiden von siliziumreichen Nitrid in einem CVD-Prozess, insbesondere einem LPCVD-Prozess. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass eine Nachbehandlungskammer (8) vorgesehen ist, in die Ammoniakgas dosierbar ist. Ferner betrifft die Erfindung eine CVD-Vorrichtung (1) sowie ein Abgasnachbehandlungsverfahren (9).