发明名称 像素结构
摘要 一种像素结构,包括基板、第一金属层、介电层、半导体层、第二金属层、图案化浮动金属层以及像素电极。第一金属层设置于基板上,且包括栅极以及与栅极电连接的扫描配线。介电层设置于基板上,且覆盖第一金属层,而半导体层设置于栅极上方的介电层上。第二金属层包括源极和漏极与数据配线,源极和漏极设置于半导体层上,且与栅极部分重叠。数据配线与源极电连接,且与扫描配线部分重叠。像素电极与漏极电连接。图案化浮动金属层设置于介电层与半导体层之间,且位于源极和漏极下方,其中部分图案化浮动金属层位于栅极上方的区域,且未完全覆盖栅极上方的区域。
申请公布号 CN100533236C 申请公布日期 2009.08.26
申请号 CN200510124256.4 申请日期 2005.11.29
申请人 中华映管股份有限公司 发明人 周瑞渊
分类号 G02F1/136(2006.01)I;G02F1/133(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I 主分类号 G02F1/136(2006.01)I
代理机构 上海专利商标事务所有限公司 代理人 陈 亮
主权项 1. 一种像素结构,其特征是包括:基板;第一金属层,设置于该基板上,该第一金属层包括:栅极;扫描配线,与该栅极电连接;介电层,设置于该基板上,且覆盖该第一金属层;半导体层,设置于该栅极上方的该介电层上;第二金属层,包括:源极和漏极,设置于该半导体层上,且该源极和漏极与该栅极有部分重叠;数据配线,与该源极电连接,其中该扫描配线与该数据配线有部分重叠;图案化浮动金属层,设置于该介电层与该半导体层之间,且位于该源极和漏极下方,其中部分该图案化浮动金属层位于该栅极上方的区域,且未完全覆盖该栅极上方的区域;以及像素电极,与该漏极电连接。
地址 台湾省台北市中山北路三段二十二号