含碱金属氧化物的光纤

摘要

本发明揭示了一种光纤，其包括二氧化硅基芯体和二氧化硅基覆层，所述芯体包含选自以下的碱金属氧化物：K₂O，Na₂O，LiO₂，Rb₂O，Cs₂O以及它们的混合物，所述碱金属氧化物在所述芯体中的平均浓度约为50-1000重量ppm，所述覆层包围所述芯体，并且与芯体直接相邻，所述光纤的光缆截止小于1400纳米，在1550纳米处的色散约为13-19ps/nm/km，零色散波长约小于1324nm。通过适当选择在芯体和覆层中的碱金属氧化物的浓度，可获得低损耗光纤。

主权项

1. 一种光纤，其包括：二氧化硅基芯体，所述芯体包含选自下组的碱金属氧化物：K2O、Na2O、LiO2、Rb2O、Cs2O、以及它们的混合物，这些碱金属氧化物在所述芯体中的平均浓度约为50-1000重量ppm，以及二氧化硅基覆层，所述覆层包围所述芯体并与该芯体直接邻接，所述光纤的光缆截止小于1400纳米，在1550纳米处的色散约为13-19ps/nm/km，零色散波长约小于1420纳米。