藉由高能量射线永久描划基板之颜料层及方法

摘要

本发明揭示特别地意图用于永久标记玻璃之颜料层，其以主要对高能量光束（更特别是雷射照射）粉碎而反应之聚合物基质为主，包含至少一种钛予体及在能量照射下提供自由碳之碳予体。