发明名称 基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件和磁逻辑元件阵列
摘要 本发明涉及一种基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件,该逻辑元件包括四条输入信号线、一条输出信号线和隧道结单元;每条输入线中流过的电流强度均相同,分别将“0”和“1”分配给它们,利用输入信号A、B、C、D的组合,决定隧道结中磁性层的磁化方向,将通过双势垒磁性隧道结的磁电阻效应的大小作为输出信号;其特征在于所述的隧道结单元是双势垒磁性隧道结单元,包括:下部磁性层、第一隧道势垒层、中间磁性层、第二隧道势垒层和上部磁性层。本发明还涉及一种将上述任意多个磁逻辑元件按照阵列排列,并使逻辑输入信号或读出电流流过磁逻辑元件的磁逻辑元件阵列。本发明的优点在于使逻辑电路小型化及高密度集成化,利于工业化。
申请公布号 CN100514694C 申请公布日期 2009.07.15
申请号 CN200610072795.2 申请日期 2006.04.11
申请人 中国科学院物理研究所 发明人 曾中明;魏红祥;姜丽仙;韩秀峰;彭子龙;詹文山
分类号 H01L43/08(2006.01)I;G11C11/16(2006.01)I;H03K19/18(2006.01)I 主分类号 H01L43/08(2006.01)I
代理机构 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 代理人 高存秀
主权项 1、一种基于双势垒磁性隧道结的逻辑元件,该逻辑元件包括四条输入信号线、一条输出信号线和隧道结单元;每条输入信号线中流过的电流强度均相同,分别将“0”和“1”分配给它们,利用输入信号A、B、C、D的组合,决定隧道结中磁性层的磁化方向,将通过双势垒磁性隧道结的磁电阻效应的大小作为输出信号,其特征在于:所述的隧道结单元是双势垒磁性隧道结单元,其包括:一个下部磁性层;一个形成于所述下部磁性层之上的第一隧道势垒层;一个形成于所述第一隧道势垒层之上的中间磁性层;一个形成于所述中间磁性层之上的第二隧道势垒层;一个形成于第二隧道势垒层之上的上部磁性层;所述的三个磁性层的组成材料为铁磁性材料、半金属磁性材料或磁性半导体材料,各磁性层的厚度均为2~10nm;所述的隧道势垒层的组成材料为选自MgO、Al2O3、AlN、Ta2O5或HfO2,其厚度为0.8~3.0nm。
地址 100080北京市海淀区中关村南三街8号