| 发明名称 | 真空装置、真空处理系统以及真空室的压力控制方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及真空装置、真空处理系统以及真空室的压力控制方法。在真空室中的闸阀的动作用空气的供给不足的情况下，也能防止闸阀急剧开放。在压力控制机构(201)中，在停止向汽缸(123)供给空气时，切换机械阀(121)的端口，气动阀(113)开放，外部气体通过真空泄漏用端口(109)、气体导入配管(111)及连通孔(107)逐渐流入真空状态的搬送室(3)内。搬送室(3)的压力控制是在确保汽缸(47)的动作用空气的状态下利用单向阀(103)以及缓冲罐(105)来进行的，因此，能够防止闸阀(7b)的急剧开放。 | ||
| 申请公布号 | CN101471241A | 申请公布日期 | 2009.07.01 |
| 申请号 | CN200810188836.3 | 申请日期 | 2008.12.26 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 锅山裕树 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙 淳 |
| 主权项 | 1. 一种真空装置，其具有利用从气体供给源供给的动作用气体而动作的闸阀、和利用所述闸阀维持真空状态的真空室，其特征在于，具有：为向所述真空室内导入外部气体而贯通形成于该真空室的壁的连通孔；一端侧与所述连通孔连接，在另一端侧形成真空泄漏用端口的配管；和设置于所述配管，利用第1控制用气体进行开闭而切换来自所述真空泄漏用端口的外部气体的导入的第1开闭机构，所述第1开闭机构，在所述第1控制用气体的供给压力成为规定压力以下时开放，而从所述真空泄漏用端口向所述真空室导入外部气体。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||