| 发明名称 | 接触孔厚氮化钛膜裂缝的解决方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种接触孔厚氮化钛膜裂缝的解决方法。通过改变原来的工艺流程的顺序，在沉积Ti/TiN黏着层之后，先进行快速热处理，然后再沉积第二层TiN，进而沉积金属钨，这样，经过快速热处理以后再沉积的第二层TiN，能够覆盖由于快速热处理导致的厚TiN膜裂缝，使TiN的厚度与原始厚度相当，避免产生由于裂缝导致的侧向侵蚀，这就为后续流程的顺利进行提供了保障，能够有效防止WF6与硅衬底和氧化物发生反应，从而最终保证了晶体的品质。 | ||
| 申请公布号 | CN101442023A | 申请公布日期 | 2009.05.27 |
| 申请号 | CN200710190252.5 | 申请日期 | 2007.11.23 |
| 申请人 | 和舰科技（苏州）有限公司 | 发明人 | 陆鸣晔;陈立轩 |
| 分类号 | H01L21/768(2006.01)I;H01L21/3205(2006.01)I;H01L21/321(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/768(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京苏科专利代理有限责任公司 | 代理人 | 陈忠辉;姚姣阳 |
| 主权项 | 1. 接触孔厚氮化钛膜裂缝的解决方法，其特征在于包括以下步骤：①Ti/TiN沉积：先制作一层由氮化钛所构成的黏着层，接触窗的表面加上一层钛，Ti/TiN共同构成一层黏着层；②RTP处理：在TiN沉积以后用快速热处理技术进行处理；③TiN沉积：快速热处理以后再一次进行TiN沉积；④金属沉积：在完成步骤③的第二次TiN沉积以后，再进行金属沉积。 | ||
| 地址 | 215025江苏省苏州市工业园区星华街333号 | ||