| 发明名称 | 一种有效控制研磨垫使用寿命的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种有效控制研磨垫使用寿命的方法。其包括如下步骤：a.确定每个研磨垫的原始使用寿命；b.每次进行研磨垫的修复之前，记录下所用来进行修复的研磨盘的使用时间；c.每个研磨垫在原始使用寿命临近结束时，对所述研磨垫的所剩沟槽深度进行重复测量直到研磨垫上所剩沟槽深度达到一个限值，即为所述研磨垫的真正的使用寿命；d.重复上述步骤b～c，得到不同的研磨盘的使用时间与真正使用寿命的相关关系；e.在实际进行研磨垫修复时，只需获得所采用的研磨盘的使用时间即可有效估算出研磨垫的真正使用寿命。由于采用对每个研磨盘的使用时间估算研磨垫寿命，从而无需花费更高成本即可更加接近或达到研磨垫的真正使用寿命。 | ||
| 申请公布号 | CN100488724C | 申请公布日期 | 2009.05.20 |
| 申请号 | CN200610118217.8 | 申请日期 | 2006.11.10 |
| 申请人 | 上海华虹NEC电子有限公司 | 发明人 | 刘艳平;张震宇 |
| 分类号 | B24B29/02(2006.01)I;B24B7/22(2006.01)I;B24B1/00(2006.01)I;B24B55/00(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | B24B29/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人 | 顾继光 |
| 主权项 | 1、一种有效控制研磨垫使用寿命的方法，其特征在于，包括如下步骤：a. 确定每个研磨垫的原始使用寿命；b. 每次进行研磨垫的修复之前，记录下所用来进行修复的研磨盘的使用时间；c. 每个研磨垫在原始使用寿命临近结束时，对所述研磨垫的所剩沟槽深度进行重复测量直至研磨垫上所剩沟槽深度达到一个限值，所述研磨垫的真正的使用寿命结束；d. 重复上述步骤b～c，得到不同的研磨盘的使用时间与真正使用寿命的相关关系；e. 在实际进行研磨垫修复时，只需测得所采用的研磨盘的使用时间即可有效估算出研磨垫的真正使用寿命。 | ||
| 地址 | 201206上海市浦东新区川桥路1188号 | ||