| 发明名称 | 线上微影及蚀刻系统 | ||
| 摘要 | 本发明能提供一处理晶圆之方法，其使用能包括位置相依性产生程序、位置相依性评估程序及位置相依性传输次序的位置相依性处理次序。位置相依性产生程序能用位置相依性处理元件来执行；位置相依性评估程序能用位置相依性评估原件来执行；及位置相依性传输次序能用位置相依性传输次系统来执行。位置相依性资料能储存在位置相依性程式库及/或资料库中。 | ||
| 申请公布号 | TW200903686 | 申请公布日期 | 2009.01.16 |
| 申请号 | TW097111696 | 申请日期 | 2008.03.31 |
| 申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 马克 温克乐;汤玛斯 温特尔 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01);G06F19/00(2006.01);H01L21/677(2006.01) | 主分类号 | H01L21/66(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 周良谋;周良吉 | |
| 主权项 | |||
| 地址 | 日本 | ||