曝光设备及装置制造方法

摘要

揭示使基底曝光的扫描式曝光设备。设备包括：照明系统，配置成照明原版的区域；投射光学系统，配置成将原版的图案投射至基底；及光阑，配置成遮蔽从投射光学系统前进至基底的闪光的闪光产生成分，以及使闪光的其余成分通过。光阑的孔径具有的形状与照明区的形状不同，以及，光阑的孔径包含一部份，此部份在平行于基底的扫描方向之第一方向上的尺寸根据与第一方向垂直的第二方向上与孔径中心的距离而变。