| 发明名称 | 光学元件和曝光装置 | ||
| 摘要 | 一种在曝光装置中被使用的光学元件，所述曝光装置用曝光束照明掩模并经投影光学系统将所述掩模的图形转印到基板上，且使规定的液体介入到所述基板的表面与所述投影光学系统之间，其中，在所述投影光学系统的所述基板一侧的透过光学元件的表面上具备第1防止溶解构件。 | ||
| 申请公布号 | CN100440432C | 申请公布日期 | 2008.12.03 |
| 申请号 | CN200480024324.3 | 申请日期 | 2004.08.26 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 白井健;国分崇生;石泽均;村上敦信 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01);G02B7/02(2006.01);G02B13/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 1.一种用于曝光装置的光学元件，所述曝光装置用曝光束照明掩模并经投影光学系统将所述掩模的图形转印到基板上，且使规定的液体介入到所述基板的表面与所述投影光学系统之间，所述光学元件的特征在于：在所述投影光学系统的所述基板一侧的透过光学元件的表面上具备第1防止溶解构件。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||