| 发明名称 | X射线源和荧光X射线分析装置 | ||
| 摘要 | 设置叠在主靶(18)上的副靶(19)。电子枪(14)产生的电子束(15)入射到主靶(18)，主靶(18)使连续X射线(20)穿透并放射。副靶(19)使主靶(18)放射的连续X射线(20)激励的特性X射线(21)穿透并放射。将主靶(18)和副靶(19)叠置，使主靶(18)放射的连续X射线(20)高效率地激励副靶(19)，高效率地产生特性X射线(21)。 | ||
| 申请公布号 | CN101310359A | 申请公布日期 | 2008.11.19 |
| 申请号 | CN200780000164.2 | 申请日期 | 2007.02.01 |
| 申请人 | 东芝电子管器件株式会社 | 发明人 | 青木延忠;角谷晶子 |
| 分类号 | H01J35/08(2006.01);G01N23/223(2006.01);H01J35/10(2006.01);H01J35/18(2006.01);H01J35/26(2006.01) | 主分类号 | H01J35/08(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 沈昭坤 |
| 主权项 | 1、一种X射线源，其特征在于，具备：产生电子束的电子枪；从所述电子枪入射电子束，而且使X射线穿透并放射的主靶；以及副靶，该副靶配置成叠在所述主靶上，而且使由所述主靶放射的X射线激励的特性X射线穿透并放射。 | ||
| 地址 | 日本栃木县 | ||