PROCEDE ET DISPOSITIF DE MESURE D'AU MOINS UNE DEFORMATION D'UNE SURFACE D'ONDE.

摘要

L'invention concerne un procédé de mesure d'au moins une déformation (18) d'au moins une surface d'onde (19), chaque surface d'onde étant associée à un point source issu d'un plan focal (30) d'un système optique (1), caractérisé en ce qu'au voisinage du plan focal (30)- on génère une déformation supplémentaire (45) prédéterminée ;- on ajoute la déformation générée au(x) surface(s) d'onde associée(s) au(x) point(s) source issu(s) du plan focal (30) ;- on acquiert une image du ou des point(s) source associé(s) au(x) surface(s) d'onde ainsi formée(s) ;- on traite l'image ainsi acquise pour, à partir de l'image acquise et de la connaissance de la déformation supplémentaire (45) générée, mesurer la ou les déformation(s) recherchée(s) (18).