| 摘要 |
1. Устройство (10) для определения толщины и удельной теплопроводности изолирующего покрытия (14), расположенного на подложке (16) объекта (12), содержащее:источник (20) для быстрой подачи множества оптических импульсов (24) к поверхности объекта (12), при этом поверхность содержит изолирующее покрытие (14);регистрирующую систему (28), выполненную с возможностью сбора данных (36), представляющих прохождение множества оптических импульсов (24) в объект (12); ипроцессор (34), соединенный с регистрирующей системой (28) и выполненный с возможностью приема данных (36) с регистрирующей системы (28) и выполненный с возможностью определения значения толщины и значения удельной теплопроводности изолирующего покрытия (14).2. Устройство по п.1, в котором поверхность объекта (12) содержит зачерненное периферийное покрытие (18), расположенное поверх изолирующего покрытия (14).3. Устройство по п.1, содержащее фильтр (22), расположенный между источником (20) и объектом (12) и выполненный с возможностью исключения длины волны, большей, чем около 2 мкм, оптического излучения, исходящего из источника (20).4. Устройство по п.1, в котором процессор (34) выполнен с возможностью получения характеристик зависимости температуры от времени для изолирующего покрытия (14) и подложки (16) на основании данных (36), принятых регистрирующей системой (28).5. Устройство по п.4, в котором процессор (34) выполнен с возможностью определения значения отражательной способности и характеристического времени покрытия путем использования характеристик зависимости температуры от времени и в котором значение отражательной способности и характеристическое время покрытия используются для определения |
