发明名称 光学配向方法及液晶显示元件
摘要 一种光学配向方法,其藉由分批平面曝光以产生预倾斜角,而不倾斜基材。此种光学配向方法系藉着于该聚合物薄膜相对于狭缝曝光罩幕在固定速率下彼此相对地移动之情况下,使该聚合物薄膜表面经由该狭缝曝光罩幕曝光,以于该聚合物薄膜表面提供液晶配向能力。或藉着于聚合物薄膜表面上连续地形成包括多条具有特定宽度及特定间隔之光学曝光图案,经由该光学曝光图案使该聚合物薄膜表面曝光,以于该聚合物薄膜表面上提供液晶配向能力。
申请公布号 TWI297799 申请公布日期 2008.06.11
申请号 TW092107325 申请日期 2003.03.28
申请人 JSR股份有限公司;独立行政法人产业技术总合研究所 发明人 木村雅之;横山浩
分类号 G02F1/1337(2006.01) 主分类号 G02F1/1337(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种光学配向方法,其包括在聚合物薄膜表面与 辐射于实质上固定的速率上彼此相对移动之情况 下,使该聚合物薄膜表面曝照具有照射强度分布之 辐射,以于该聚合物薄膜表面上提供液晶配向能力 。 2.如申请专利范围第1项之光学配向方法,其中液晶 配向能力系藉着使该聚合物薄膜表面经由狭缝曝 光罩幕曝照辐射而提供于该聚合物薄膜表面下,此 时该聚合物薄膜表面与辐射系于实质上固定的速 率上彼此相对移动。 3.如申请专利范围第1项之光学配向方法,其中该聚 合物薄膜表面曝照具有照射强度分布之辐射的曝 光处理,系藉投影器于聚合物薄膜上形成投影图案 ,且在该聚合物薄膜表面与辐射于实质上固定的速 率下彼此相对移动的情况下使该聚合物薄膜曝照 辐射而进行。 4.如申请专利范围第1项之光学配向方法,其中系于 该聚合物薄膜表面上提供液晶配向能力及80。或 更大之预倾斜角的发展性。 5.如申请专利范围第4项之光学配向方法,其中该聚 合物薄膜系自具有下列(A)及(B)之聚合物而制得:(A) 可藉光交联之结构及(B)至少一个选自下列的基团: 含氟有机基团、具有10至30个碳原子之烷基及具有 10至30个碳原子之脂环族有机基团。 6.如申请专利范围第1项之光学配向方法,其中该表 面上具有液晶配向能力之聚合物薄膜系为液晶配 向膜。 7.一种液晶显示元件,其具有藉由申请专利范围第1 项之光学配向方法所形成之液晶配向膜。 8.一种光学配向方法,其包括于聚合物薄膜表面上 提供液晶配向能力,此系藉着使聚合物薄膜表面经 由光学曝光图案曝照辐射而达成,该具有许多具有 特定宽度及特定间隔之线条的光学曝光图案系连 续形成于该聚合物薄膜表面上,使得该线条系环绕 位于该聚合物薄膜表面上之特定假想基点,同心地 向着圆周扩大且消失于圆周上,或其系始自远离该 假想点之圆周,同心地会聚于该假想基点上,且于 该假想基点上消失。 9.如申请专利范围第8项之方法,其中该光学曝光图 案系为藉投影器投射之投影图案。 10.如申请专利范围第8项之方法,其中该光学曝光 图案系为干涉条纹,且藉由移动其相位而移动。 11.如申请专利范围第8项之方法,其中该光学曝光 图案系为投影图案与干涉条纹之组合。 12.如申请专利范围第8项之方法,其中该具有特定 宽度之线条系为圆形、椭圆形或多边形。 13.如申请专利范围第8项之方法,其中该曝光系藉 着形成许多彼此相邻之光学曝光图案而进行。 14.如申请专利范围第8项之方法,其中该光学曝光 图案之线条系消失于或始自离开假想基点300微米 之区域。 15.如申请专利范围第8项之方法,其中该表面上具 有液晶配向能力之聚合物薄膜系为液晶配向膜。 16.一种液晶显示元件,其具有拥有液晶配向能力且 系藉由如申请专利范围第8项之光学配向方法形成 之聚合物薄膜,以作为液晶配向膜。 17.一种光学配向方法,其包括于聚合物薄膜表面上 提供液晶配向能力,此系藉使该聚合物薄膜表面经 由光学曝光图案曝照辐射而达成,该具有许多具有 特定宽度及特定间隔之线条的光学曝光图案系连 续形成于该聚合物薄膜表面上,使得位于该聚合物 薄膜表面上开关特定假想基线的两区域的图案及 图案移动方向中至少一项相异,其中该光学曝光图 案之线条系连续形成于该聚合物薄膜表面之两区 域中,使其始自个别区域,移动至覆盖该个别区域, 且于该个别区域中消失。 18.一种光学配向方法,其包括于聚合物薄膜表面上 提供液晶配向能力,其系使聚合物薄膜表面经由光 学曝光图案曝照辐射而达成,该具有许多具有特定 宽度及特定间隔之线条的光学曝光图案系连续地 形成于该聚合物薄膜表面上,使得该线条自聚合物 薄膜表面上之特定假想基线向着该假想基线之右 向及左向两方向移动,而于右边及左边位置消失, 或其系始自该假想基线之右边及左边位置,自该左 边及右边方向向着该假想基线移动,而于该假想基 线上消失。 19.如申请专利范围第17或18项之方法,其中该光学 曝光图案系为藉由投影器投射之投影图案。 20.如申请专利范围第17或18项之方法,其中该光学 曝光图案系为干涉条纹,且系藉由移动其相位而移 动。 21.如申请专利范围第17或18项之方法,其中该光学 曝光图案系为投影图案与干涉条纹之组合。 22.如申请专利范围第17或18项之方法,其中该具有 特定宽度之线条系为直线、虚线或曲线。 23.如申请专利范围第17或18项之方法,其中曝光系 藉由形成许多彼此相邻之光学曝光图案而进行。 24.如申请专利范围第17或18项之方法,其中该光学 曝光图案之线条系消失于或始自离该假想基线1亳 米或较近之区域。 25.如申请专利范围第17或18项之方法,其中该表面 上提供有液晶配向能力之聚合物薄膜系为液晶配 向膜。 26.一种液晶显示元件,其具有拥有液晶配向能力且 系藉由如申请专利范围第17或18项之光学配向方法 形成之聚合物薄膜,以作为液晶配向膜。 图式简单说明: 图1系为说明先前技术光学配向方法之示意图(侧 视图); 图2系为说明先前技术之另一光学配向方法的示意 图(侧视图); 图3系为说明本发明光学配向方法之一实例的图( 侧视图); 图4系为说明本发明光学配向方法之另一实例的图 (侧视图); 图5系为显示于本发明光学配向方法中形成光学曝 光图案之实例的图; 图6系为说明本发明光学配向方法之一实例的图( 透视图); 图7系为本发明实例所使用之曝光罩幕图案(狭缝 曝光罩幕)的图示; 图8系为显示实施例中可移动平台之移动速率与预 倾斜角之间的关系之图示; 图9系为说明本发明光学配向方法之一实例的图示 ,参考编号21系表示紫外线光源,参考编号22系表示 狭缝罩幕,而参考编号23系表示投影透镜;且 图10系为实施例4所得之液晶显示元件之元件的视 野之图示。
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