| 发明名称 | 加热设备和加热方法 | ||
| 摘要 | 一种加热设备(45)，具有沿玻璃基片(24)被输送机构(74)输送的方向布置的第一至第五加热炉(82～90)。第一加热炉(82)具有至少将玻璃基片(24)加热到处理工件(24)所需的目标温度的第一加热器(98a)。第二加热炉(84)具有将玻璃基片(24)加热到等于或低于目标温度的加热器(98b)。第二加热炉(84)产生比第一加热炉(82)少的热量。所述第二加热炉或者所述第二加热炉的下游的加热炉之一可以包括缓冲器系统，以避免在第一加热炉中的工件的过度加热。 | ||
| 申请公布号 | CN101184969A | 申请公布日期 | 2008.05.21 |
| 申请号 | CN200680017594.0 | 申请日期 | 2006.05.19 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 中桐政幸;杉原了一;秋好宽和 |
| 分类号 | F27B9/02(2006.01);C03B29/08(2006.01);F27B9/30(2006.01);F27D19/00(2006.01);F27B9/12(2006.01) | 主分类号 | F27B9/02(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 张成新 |
| 主权项 | 1.一种用于加热工件(24)的设备(45)，包括：输送机构(74)，用于在输送方向上输送工件(24)；和沿着所述输送方向设置的至少第一和第二加热炉(82，84)；其中所述第一加热炉(82)相对于所述输送方向设置在所述第二加热炉(84)的上游，并具有用于将所述工件(24)至少加热到处理该工件(24)所需的目标温度的第一热源(98a)；并且能够产生比所述第一加热炉少的热量的所述第二加热炉(84)相对于所述输送方向设置在第一加热炉(82)的下游，并且具有用于将所述工件(24)加热到低于所述目标温度的温度的第二加热源(98b)。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||