SiO2 SLURRY FOR THE PRODUCTION OF QUARTZ GLASS AS WELL AS THE APPLICATION OF THE SLURRY

摘要

Ein bekannter SiO₂-Schlicker zur Herstellung von Quarzglas enthält eine Dispersionsflüssigkeit und amorphe SiO₂-Teilchen mit Teilchengrößen bis maximal 500 µm, wobei SiO₂-Teilchen mit Teilchengrößen im Bereich zwischen 1 µm und 60 µm den größten Volumenanteil ausmachen, sowie außerdem SiO₂-Nanoteilchen mit Teilchengrößen von weniger als 100 nm im Bereich zwischen 0,2 Gew.-% und 15 Gew.-% (bezogen auf den gesamten Feststoffgehalt). Um hiervon ausgehend einen Schlicker bereit zu stellen, dessen Fließverhalten insbesondere im Hinblick auf eine Verarbeitung durch Abziehen oder Gießen der Schlickermasse und in Bezug auf ein rissfreies Trocknen und Sintern optimiert ist, wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass die SiO₂-Teilchen eine mehrmodale Teilchengrößenverteilung mit einem ersten Maximum der Größenverteilung im Bereich von 1 und 3 µm und einem zweiten Maximum im Bereich von 5 bis 50 µm aufweisen, und dass der Feststoffgehalt (Gewichtsanteil der SiO₂-Teilchen und der SiO₂-Nanoteilchen zusammen) im Bereich zwischen 83 und 90 % liegt.