开环置换聚合体氢化物、含该开环置换聚合体氢化物的光阻材料以及图案形成方法

摘要

本发明提供一种主链上具有脂环骨架、耐蚀刻性优异、且显影特性优异的树脂、使用该树脂的高能量线曝光用光阻材料以及使用该光阻材料的图案形成方法。本发明是关于一种开环置换聚合体氢化物、含该开环置换聚合体氢化物的光阻材料及图案形成方法。其中，上述开环置换聚合体氢化物是由具有脂环骨架的结构单元[A]、[B]，以及选自下述通式[5]及/或[6]的结构单元[C]所构成。式中，e以及f分别表示0～3之整数。其中，结构单元[A]的通式[1]之X1、结构单元[B]的通式[3]之X2、以及通式[4]之X3中的至少一个为-O-，其构成莫耳比满足[A]/（[B]＋[C]）＝20/80～98/2、（[A]＋[B]）/[C]＝99/1～50/50及（[A]＋[C]）/[B]＝99/1～21/79。[化1]