| 发明名称 | 具角度的旋转、清洗、及干燥模组与其制造及实施方法 | ||
| 摘要 | 提供一种晶片制备模组。此晶片制备模组具有包括晶片啮合滚筒的一容室。在制备期间，将晶片啮合滚筒定位于一角度并设计为以一角度旋转一晶片。 | ||
| 申请公布号 | CN100375226C | 申请公布日期 | 2008.03.12 |
| 申请号 | CN02807627.3 | 申请日期 | 2002.03.27 |
| 申请人 | 兰姆研究有限公司 | 发明人 | R·E·特罗伊尔 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 章社杲 |
| 主权项 | 1.一种在一旋转、清洗、及干燥(SRD)模组中的一个单一晶片处理方法，该方法包含：啮合一个单一晶片在一处理平面中，此处理平面设为使其与一水平面界定出一处理角度，此处理角度设为使此旋转、清洗、及干燥模组的性能最佳化；在此处理平面中旋转该单一晶片；和当在此处理平面中旋转该单一晶片时，同时清洁该单一晶片的一上表面及一下表面；其中啮合单一晶片在一处理平面中包括：将该旋转、清洗、及干燥模组定位在一个单一晶片接收位置；将待处理的单一晶片定向在一由插入角度所限定的插入位置；将该单一晶片以该插入角度插入至该旋转、清洗、及干燥模组之中；将该旋转、清洗、及干燥模组放置在一处理位置。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||