| 主权项 |
1.一种平台装置,系具有: 平台,其系矩形基板会被搬送于其上方;及 浮上机构,其系于该平台上使矩形基板浮上; 以在上述平台上浮上的矩形基板其一对的边能够 与搬送方向实质平行,另外一对的边能够与搬送方 向实质正交之方式来搬送, 其特征为: 上述平台具有:用以喷射气体的复数个气体喷射口 、及用以藉由吸气来吸引矩形基板的复数个吸气 口, 上述浮上机构具有:经由上述吸气口来吸气的吸气 机构、及经由上述气体喷射口来喷射气体的气体 喷射机构,藉由上述吸气机构之上述复数个吸气口 的吸引、及上述气体喷射机构之上述复数的气体 喷射口的气体喷射,使矩形基板以实质水平姿势来 从上述平台的表面浮上一定的高度, 上述复数个吸气口,系以矩形基板被搬送于上述平 台上时,上述吸气口的吸气压力变动能够形成容许 范围之方式,矩形基板的搬送方向前端不会同时覆 盖所定数以上的吸气口,且矩形基板的搬送方向后 端不会同时使所定数以上的吸气口开放之状态下 配置于上述平台。 2.如申请专利范围第1项之平台装置,其中上述吸气 口系于矩形基板的搬送方向及与正交于该搬送方 向的方向偏移一定角度的方向分别以所定间隔来 设置。 3.一种平台装置,系具有: 平台,其系基板会被搬送于其上方;及 浮上机构,其系于该平台上使基板浮上; 其特征为: 上述平台具有:用以喷射气体的复数个气体喷射口 、及用以吸气吸引基板的复数个吸气口, 上述吸气机构具有: 所定数的配管部,其系使上述复数个吸气口按所定 数连通; 1个岐管,其系使上述所定数的配管部连通; 吸气装置,其系为了经由上述岐管来进行来自上述 复数个吸气口的吸气,而连接至上述岐管;及 被大气开放的穴部,其系被设置于上述配管部之上 述吸气口附近,而使能够提高对使基板浮上搬送于 上述平台上时的吸气压力变动之反应性。 4.如申请专利范围第3项之平台装置,其中上述配管 部具有: 第1配管部,其系使所定数的吸气口连通于上述平 台的内部;及 第2配管部,其系用以连接该第1配管部与上述岐管; 上述穴部系设置于上述第2配管部的上述平台附近 或上述第1配管部之中的一个。 5.一种平台装置,系具有: 平台,其系基板会被搬送于其上方;及 浮上机构,其系于该平台上使基板浮上; 其特征为: 上述平台具备复数个小平台,该复数个小平台具有 :用以喷射气体的复数个气体喷射口、及用以吸气 吸引基板的复数个吸气口, 上述浮上机构具有:经由上述吸气口来吸气的吸气 机构,及经由上述气体喷射口来喷射气体的气体喷 射机构,藉由上述吸气机构之上述复数个吸气口的 吸引及上述气体喷射机构之上述复数的气体喷射 口的气体喷射,使基板以实质水平姿势来从上述平 台的表面浮上一定的高度, 上述吸气机构具有: 复数个配管部,其系用以使上述复数个小平台所分 别具备的复数个吸气口连通于各上述复数个小平 台; 岐管,其系用以使上述复数个配管部连通; 吸气装置,其系为了经由上述岐管来进行来自各设 置于上述复数个小平台的复数个吸气口的吸气,而 连接至上述岐管;及 旁通管,其系使上述复数个配管部彼此间连通,而 使上述复数个小平台的各吸气压力的不均变小。 6.如申请专利范围第5项之平台装置,其中各设置于 上述复数个小平台的配管部具有复数个枝管,该复 数个枝管系使各设置于上述复数个小平台的复数 个吸气口按所定数连通, 上述复数个枝管系连接至上述岐管,且使上述旁通 管与各设置于上述复数个小平台的上述复数个枝 管相互连通。 7.如申请专利范围第5项之平台装置,其中上述复数 个小平台系分别复数排列于基板的搬送方向及与 该搬送方向正交的方向, 上述旁通管系使该等的小平台所分别具有的配管 部连通于基板的搬送方向及与该搬送方向正交的 方向。 8.一种平台装置,系具有: 平台,其系矩形基板会被搬送于其上方;及 浮上机构,其系于该平台上使矩形基板浮上; 以在上述平台上浮上的矩形基板其一对的边能够 与搬送方向实质平行,另外一对的边能够与搬送方 向实质正交之方式来搬送, 其特征为: 上述平台具有:用以喷射气体的复数个气体喷射口 、及用以藉由吸气来吸引矩形基板的复数个吸气 口, 上述浮上机构具有:经由上述吸气口来吸气的吸气 机构、及经由上述气体喷射口来喷射气体的气体 喷射机构,藉由上述吸气机构之上述复数个吸气口 的吸引、及上述气体喷射机构之上述复数的气体 喷射口的气体喷射,使矩形基板以实质水平姿势来 从上述平台的表面浮上一定的高度, 上述吸气机构具有: 复数个配管部,其系用以使上述复数个小平台所分 别具备的复数个吸气口连通于各上述复数个小平 台; 被大气开放的穴部,其系被设置于上述配管部之上 述吸气口附近,而使能够提高对使基板浮上搬送于 上述平台上时的吸气压力变动之反应性; 岐管,其系用以使上述复数个配管部连通; 吸气装置,其系为了经由上述岐管来进行来自各设 置于上述复数个小平台的复数个吸气口的吸气,而 连接至上述岐管;及 旁通管,其系使上述复数个配管部彼此间连通,而 使上述复数个小平台的各吸气压力的不均变小; 上述复数个吸气口,系于各上述小平台,以矩形基 板藉由上述搬送机构来搬送于上述平台上时,上述 吸气口的吸气压力变动能够形成容许范围之方式, 矩形基板的搬送方向前端不会同时覆盖所定数以 上的吸气口,且矩形基板的搬送方向后端不会同时 使所定数以上的吸气口开放之状态下配置于上述 平台。 9.一种涂布处理装置,系一边搬送矩形基板,一边在 该矩形基板涂布涂布液,而形成涂布膜,其特征系 具备: 平台装置,其系具有:矩形基板会被搬送于其上方 的平台,及于该平台上使矩形基板浮上的浮上机构 ; 基板搬送机构,其系以在上述平台上浮上的矩形基 板其一对的边能够与搬送方向实质平行,另外一对 的边能够与搬送方向实质正交之方式来搬送;及 涂布机构,其系藉由上述基板搬送机构来搬送于上 述平台上的基板表面涂布涂布液; 上述平台具有:用以喷射气体的复数个气体喷射口 、及藉由吸气来吸引矩形基板的复数个吸气口, 上述浮上机构具有:经由上述吸气口来吸气的吸气 机构、及经由上述气体喷射口来喷射气体的气体 喷射机构,藉由上述吸气机构之上述复数个吸气口 的吸引、及上述气体喷射机构之上述复数的气体 喷射口的气体喷射,使矩形基板以实质水平姿势来 从上述平台的表面浮上一定的高度, 上述复数个吸气口,系以矩形基板藉由上述搬送机 构来搬送于上述平台上时,上述吸气口的吸气压力 变动能够形成容许范围之方式,矩形基板的搬送方 向前端不会同时覆盖所定数以上的吸气口,且矩形 基板的搬送方向后端不会同时使所定数以上的吸 气口开放之状态下配置于上述平台。 10.一种涂布处理装置,系一边搬送基板,一边在该 基板涂布涂布液,而形成涂布膜,其特征系具备: 平台装置,其系具有:基板会被搬送于其上方的平 台,及于该平台上使基板浮上的浮上机构; 基板搬送机构,其系搬送上述平台上所浮上的基板 ;及 涂布机构,其系藉由上述基板搬送机构来搬送于上 述平台上的基板表面涂布涂布液; 上述平台具有:用以喷射气体的复数个气体喷射口 、及吸气吸引基板的复数个吸气口, 上述浮上机构具有:经由上述吸气口来吸气的吸气 机构、及经由上述气体喷射口来喷射气体的气体 喷射机构,藉由上述吸气机构之上述复数个吸气口 的吸引、及上述气体喷射机构之上述复数的气体 喷射口的气体喷射,使基板以实质水平姿势来从上 述平台的表面浮上一定的高度, 上述吸气机构具有: 所定数的配管部,其系使上述复数个吸气口按所定 数连通; 1个岐管,其系使上述所定数的配管部连通; 吸气装置,其系为了经由上述岐管来进行来自上述 复数个吸气口的吸气,而连接至上述岐管;及 被大气开放的穴部,其系被设置于上述配管部之上 述吸气口附近,而使能够提高对使基板浮上搬送于 上述平台上时的吸气压力变动之反应性。 11.一种涂布处理装置,系一边搬送基板,一边在该 基板涂布涂布液,而形成涂布膜,其特征系具备: 平台装置,其系具有:基板会被搬送于其上方的平 台,及于该平台上使基板浮上的浮上机构; 基板搬送机构,其系搬送上述平台上所浮上的基板 ;及 涂布机构,其系藉由上述基板搬送机构来搬送于上 述平台上的基板表面涂布涂布液; 上述平台具有:用以喷射气体的复数个气体喷射口 、及吸气吸引基板的复数个吸气口, 上述浮上机构具有:经由上述吸气口来吸气的吸气 机构、及经由上述气体喷射口来喷射气体的气体 喷射机构,藉由上述吸气机构之上述复数个吸气口 的吸引、及上述气体喷射机构之上述复数的气体 喷射口的气体喷射,使基板以实质水平姿势来从上 述平台的表面浮上一定的高度, 上述吸气机构具有: 复数个配管部,其系用以使上述复数个小平台所分 别具备的复数个吸气口连通于各上述复数个小平 台; 岐管,其系用以使上述复数个配管部连通; 吸气装置,其系为了经由上述岐管来进行来自各设 置于上述复数个小平台的复数个吸气口的吸气,而 连接至上述岐管;及 旁通管,其系使上述复数个配管部彼此间连通,而 使上述复数个小平台的各吸气压力的不均变小。 12.一种涂布处理装置,系一边搬送矩形基板,一边 在该矩形基板涂布涂布液,而形成涂布膜,其特征 系具备: 平台装置,其系具有:矩形基板会被搬送于其上方 的平台,及于该平台上使矩形基板浮上的浮上机构 ; 基板搬送机构,其系以在上述平台上浮上的矩形基 板其一对的边能够与搬送方向实质平行,另外一对 的边能够与搬送方向实质正交之方式来搬送;及 涂布机构,其系藉由上述基板搬送机构来搬送于上 述平台上的矩形基板表面涂布涂布液; 上述平台具有:用以喷射气体的复数个气体喷射口 、及藉由吸气来吸引矩形基板的复数个吸气口, 上述浮上机构具有:经由上述吸气口来吸气的吸气 机构、及经由上述气体喷射口来喷射气体的气体 喷射机构,藉由上述吸气机构之上述复数个吸气口 的吸引、及上述气体喷射机构之上述复数的气体 喷射口的气体喷射,使基板以实质水平姿势来从上 述平台的表面浮上一定的高度, 上述吸气机构具有: 复数个配管部,其系用以使上述复数个小平台所分 别具备的复数个吸气口连通于各上述复数个小平 台; 被大气开放的穴部,其系被设置于上述配管部之上 述吸气口附近,而使能够提高对使基板浮上搬送于 上述平台上时的吸气压力变动之反应性; 岐管,其系用以使上述复数个配管部连通; 吸气装置,其系为了经由上述岐管来进行来自各设 置于上述复数个小平台的复数个吸气口的吸气,而 连接至上述岐管;及 旁通管,其系使上述复数个配管部彼此间连通,而 使上述复数个小平台的各吸气压力的不均变小; 上述复数个吸气口,系于各上述小平台,以矩形基 板藉由上述搬送机构来搬送于上述平台上时,上述 吸气口的吸气压力变动能够形成容许范围之方式, 矩形基板的搬送方向前端不会同时覆盖所定数以 上的吸气口,且矩形基板的搬送方向后端不会同时 使所定数以上的吸气口开放之状态下配置于上述 平台。 图式简单说明: 图1是具备本发明之-实施形态的光阻剂涂布装置 的光阻剂涂布.显像处理系统的概略平面图。 图2是表示光阻剂涂布.显像处理系统之第1热的处 理单元部的侧面图。 图3是表示光阻剂涂布.显像处理系统之第2热的处 理单元部的侧面图。 图4是表示光阻剂涂布.显像处理系统之第3热的处 理单元部的侧面图。 图5是光阻剂涂布.显像处理系统所具备之光阻剂 涂布单元的概略平面图。 图6是光阻剂涂布单元所具备之小平台(202a)的概略 构造平面图。 图7是光阻剂涂布单元所具备之小平台(201a)的概略 配管构造图。 图8是表示使LCD基板G搬送于光阻剂涂布单元所具 备的小平台(201a)上时之吸气口的吸气压力变化图 表。 图9是光阻剂涂布单元所具备的复数个小平台间的 配管构造图。 图10(a)是表示为了试验而准备之小平台的吸气口 的配置平面图,图10(b)是表示使LCD基板G搬送于图(a) 的小平台上时的吸气口的吸气压力变化图表。 图11是表示将LCD基板G搬送于光阻剂涂布单元所具 备的小平台(202a.202b)上时的吸气压力变化图表,及 将LCD基板G搬送于小平台(201a.201b)上时的吸气压力 变化图表。 |
