发明名称 具有高三阶非线性极化率χ<SUP>(3)</SUP>的复合薄膜及其制备方法
摘要 本发明公开了一种具有超高三阶非线性极化率χ<SUP>(3)</SUP>的Ag:SrBi<SUB>2</SUB>Nb<SUB>2</SUB>O<SUB>9</SUB>复合薄膜,薄膜制备在脉冲激光沉积系统下进行,激光束经焦距为500mm的石英透镜聚焦,光束焦点落在旋转的Ag/SrBi<SUB>2</SUB>Nb<SUB>2</SUB>O<SUB>9</SUB>靶上,选用MgO或钛酸锶或石英玻璃作为基片,基片与靶材的距离控制在40mm。在不同的气氛下(本底真空抽至5-8×10<SUP>-4</SUP>Pa)制备Ag:SrBi<SUB>2</SUB>Nb<SUB>2</SUB>O<SUB>9</SUB>薄膜,标准的单光束Z扫描实验系统测量薄膜的非线性光学性质,该薄膜三阶非线性极化率的实部(|Reχ<SUP>(3)</SUP>|)和虚部(|Imχ<SUP>(3)</SUP>|)分别为8.052×10<SUP>-7</SUP>和1.171×10<SUP>-7</SUP>esu,证明薄膜具有超高的三阶非线性极化率,在非线性光学领域有广阔应用前景。
申请公布号 CN100368923C 申请公布日期 2008.02.13
申请号 CN200510080101.5 申请日期 2005.06.29
申请人 中国科学院物理研究所 发明人 宋蕊;关东仪;曹则贤
分类号 G02F1/35(2006.01);G02F1/355(2006.01) 主分类号 G02F1/35(2006.01)
代理机构 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 代理人 尹振启
主权项 1.一种具有高三阶非线性极化率χ(3)的复合薄膜,其特征在于,该复合薄膜为:Ag:SrBi2Nb2O9复合薄膜。
地址 100080北京市海淀区中关村南三街8号
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