| 发明名称 | 光掩模与曝光方法 | ||
| 摘要 | 一种适用于光刻工艺的光掩模，光掩模至少包括基板、至少一个图案区与多个对准标记。其中，图案区位于基板上，且至少其中的一个图案区的图案区中心不与基板的基板中心重叠。对准标记位于每一个图案区的周围的基板上，且其中至少四个对准标记包围一个图案区。 | ||
| 申请公布号 | CN101105624A | 申请公布日期 | 2008.01.16 |
| 申请号 | CN200610103090.2 | 申请日期 | 2006.07.10 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 黄启清 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/004(2006.01) | 主分类号 | G03F1/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种光掩模，适用于光刻工艺，该光掩模包括：基板；至少一图案区，位于该基板上，至少该些图案区其中之一的一图案区中心不与该基板的基板中心重叠；以及多个对准标记，位于每一该些图案区的周围的该基板上，其中至少四个对准标记包围每一该些图案区。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹科学工业园区 | ||