发明名称 一种无TiC杂质相的碳化硅钛陶瓷粉体的合成方法
摘要 本发明公开了一种低成本无TiC杂质相的碳化硅钛陶瓷粉体的常压合成方法,以Ti粉、Si粉和TiC粉为原料,Al为反应助剂,按Ti∶TiC∶Si∶Al=1∶1∶(0.9~1)∶(0.1~0.2)的摩尔比配料,干混5~10小时后,在30~50MPa压力下压制成块,将压块置于高温炉中,氩气或真空气氛下,以15~50℃/min的升温速率将炉温升至1450~1550℃,保温时间为5~15min,制得无TiC杂质相的Ti<SUB>3</SUB>SiC<SUB>2</SUB>粉体。该方法具有:合成Ti<SUB>3</SUB>SiC<SUB>2</SUB>粉体时间短,纯度高,成本低,所用设备简单,工艺参数稳定,适用于规模化生产。
申请公布号 CN101066869A 申请公布日期 2007.11.07
申请号 CN200710118878.5 申请日期 2007.06.13
申请人 北京交通大学 发明人 李世波;向卫华;陈新华;翟洪祥;周洋
分类号 C04B35/56(2006.01);C04B35/622(2006.01);C04B35/65(2006.01) 主分类号 C04B35/56(2006.01)
代理机构 北京市商泰律师事务所 代理人 吴克宇;毛燕生
主权项 1.一种无TiC杂质相的碳化硅钛陶瓷粉体的合成方法,其特征在于:(1)以Ti粉、Si粉和TiC粉为原料,Al为反应助剂,按Ti∶TiC∶Si∶Al=1∶1∶0.9或1∶0.1~0.2的摩尔比配料;(2)将上述配料和玛瑙球放入球磨罐中,在球磨机上干混5~10小时;(3)将上述混合均匀的配料在30~50MPa压力下压制成块;(4)将上述压块置于高温炉中,在氩气或真空气氛下,以15~50℃/min的升温速率将炉温升至1450~1550℃,保温时间为5~15min,制得无TiC杂质相的Ti3SiC2粉体。
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