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发明名称 PHOTORESISTS, FLUOROPOLYMERS AND PROCESSES FOR 157 NM MICROLITHOGRAPHY
摘要
申请公布号 EP1546222(A4) 申请公布日期 2007.11.07
申请号 EP20030794464 申请日期 2003.08.08
申请人 E. I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 发明人 FEIRING, ANDREW, E.;SCHADT, FRANK, L., III;PETROV, VIACHESLAV ALEXANDROVICH;SMART, BRUCE, EDMUND;FARNHAM, WILLIAM, BROWN
分类号 C08F8/00;C08F12/20;C08F214/18;C08F214/26;C08F232/00;C08F232/08;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):C08F14/18;G03C1/73 主分类号 C08F8/00
代理机构 代理人
主权项
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