发明名称 基板结构及薄膜图案层之制造方法
摘要 本发明涉及一种基板结构,其包括:一基板及复数形成于该基板上之挡墙,该复数挡墙与基板间形成复数收容空间,该收容空间用于收容墨水,其中,所述挡墙宽度W系挡墙高度H的函数,在0<H<最大高度Hmax时,该函数存在歧异点,且从该歧异点两端之左逼近的宽度大于右逼近的宽度。所述挡墙可阻挡墨水扩散至相邻之收容空间,从而避免填充至两相邻收容空间之墨水出现相混。本发明还涉及一种薄膜图案层之制造方法,其步骤如下:提供一上述基板结构;藉由一喷墨装置将墨水填充于收容空间中;乾燥固化收容空间中之墨水而形成薄膜图案层。
申请公布号 TW200734063 申请公布日期 2007.09.16
申请号 TW095107207 申请日期 2006.03.03
申请人 虹创科技股份有限公司 发明人 周景瑜;李岱原
分类号 B05C11/08(2006.01) 主分类号 B05C11/08(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区工业东四路24之1号4楼