基板处理装置

摘要

一种基板处理装置，是以水平状态在基板表面形成了处理液的液层之后、将基板变换为倾斜姿态的装置，能够用处理液对基板表面进行均匀地处理。当通过显影液供给喷嘴(22)将显影液供给到表面上的基板(S)被搬送辊(21、31)搬送到倾斜机构时，从显影液补充喷嘴(43)对利用倾斜机构而开始向倾斜姿态变换的基板(S)的上端部供给显影液。姿态变换后的基板被搬送辊(41)搬送到下一个工序的清洗室(5)。