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发明名称
矽/锗异质结构的长波长矽金属氧化半导体发光元件
摘要
本发明系提出一种具四族异质接面结构之发光元件的制造方法,该方法至少包含下列步骤:(1)提供一矽基板,其具有一第一表面与一第二表面;(2)于该第一表面上形成一薄锗层;(3)于该薄锗层上形成一覆盖层(caplayer);(4)于该覆盖层上形成一氧化层;(5)于该氧化层上形成一第一导电层;(6)于该第二表面上形成一第二导电层;以及(7)分别于该第一与该第二导电层上形成一导电接线。利用上述制程所制作出来的金属氧化物半导体发光二极体具有能释放出近红外光波长之特性。
申请公布号
TW200723555
申请公布日期
2007.06.16
申请号
TW094142378
申请日期
2005.12.01
申请人
国立台湾大学
发明人
廖洺汉;余承晔;刘致为
分类号
H01L33/00(2006.01)
主分类号
H01L33/00(2006.01)
代理机构
代理人
蔡清福
主权项
地址
台北市大安区罗斯福路4段1号
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