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发明名称 APPARATUS FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING
摘要
申请公布号 KR20070055167(A) 申请公布日期 2007.05.30
申请号 KR20050113576 申请日期 2005.11.25
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 CHA, HYE JIN;KANG, TAE SOO;CHO, KYOO CHUL;PARK, YOUNG SOO;CHOI, SOO YEOL;LEE, YOON HEE;JOUN, TAE HOON
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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