发明名称 含黏着剂组成物之半导体装置
摘要 本发明之黏着剂组成物为含有热塑性树脂,与自由基聚合性化合物,与1分钟半衰期温度为90至145℃之第1自由基聚合起始剂,与1分钟半衰期温度为150至175℃之第2自由基聚合起始剂者。依本发明内容,可制得一种可进行低温且极为迅速之硬化处理,硬化处理时具有更广泛的制程适应性,具有极安定之黏着强度或连接电阻之黏着剂组成物及半导体装置。
申请公布号 TWI277642 申请公布日期 2007.04.01
申请号 TW095100333 申请日期 2005.03.03
申请人 日立化成工业股份有限公司 发明人 加藤木茂树;须藤朋子;伊泽弘行;汤佐正己
分类号 C09J4/00(2006.01);C09J7/00(2006.01);C09J9/02(2006.01);C09J11/04(2006.01);H01B1/20(2006.01);H01L21/60(2006.01) 主分类号 C09J4/00(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种半导体装置,其为具有半导体元件,与 搭载前述半导体元件之基板,与 设置于前述半导体元件与前述基板间,以电路连接 前述半导体元件与前述基板之半导体元件连接构 件之半导体装置,其特征为,前述半导体元件连接 构件,为含有热塑性树脂,与自由基聚合性化合物, 与1分钟半衰期温度为90至145℃之第1自由基聚合起 始剂,与1分钟半衰期温度为150至175℃之第2自由基 聚合起始剂之黏着剂组成物之硬化物。 2.如申请专利范围第1项之半导体装置,其中,前述 黏着组成物之自由基聚合性化合物为于分子内具 有2个以上之(甲基)丙烯醯基者。 3.如申请专利范围第1项之半导体装置,其中,前述 黏着组成物之第1自由基聚合起始剂与前述第2自 由基聚合起始剂,皆为分子量180至1000之过氧化酯 衍生物。 4.如申请专利范围第1至3项中任一项之半导体装置 ,其中,相对于前述黏着剂组成物之前述热塑性树 脂100质量份,前述自由基聚合性化合物为含有50至 250质量份,且前述第1自由基聚合起始剂与前述第2 自由基聚合起始剂各自含有0.05至30质量份。 5.如申请专利范围第1至3项中任一项之半导体装置 ,其于前述黏着剂组成物中,尚含有导电性粒子。 6.如申请专利范围第4项之半导体装置,其于前述黏 着剂组成物中,尚含有导电性粒子。 7.如申请专利范围第5项之半导体装置,其中,相对 于前述黏着剂组成物之前述热塑性树脂100质量份, 前述导电性粒子为含有0.5至30质量份。 图式简单说明: 图1:本发明之电路构件之连接结构之一实施形态 之概略截面图。 图2:本发明之半导体装置之一实施形态之概略截 面图。
地址 日本