| 发明名称 | 掩模及其制法、成膜方法、电光学装置的制法及电子设备 | ||
| 摘要 | 提供一种掩模，包括：具有开口的底座基板；薄片，其具有定位于所述底座基板的所述开口的开口图案；插塞，其可卸除地配置于所述底座基板；和接合材，其接合所述薄片与所述插塞。 | ||
| 申请公布号 | CN1916228A | 申请公布日期 | 2007.02.21 |
| 申请号 | CN200610105814.7 | 申请日期 | 2006.07.12 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 小枝周史;四谷真一 |
| 分类号 | C23C14/04(2006.01);C23C14/24(2006.01);G02F1/00(2006.01);H05B33/00(2006.01) | 主分类号 | C23C14/04(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汪惠民 |
| 主权项 | 1.一种掩模，包括：具有开口的底座基板；薄片，其具有定位于所述底座基板的所述开口的开口图案；插塞，其可卸除地配置于所述底座基板；和接合材，其接合所述薄片与所述插塞。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||