发明名称 处理氮化物半导体晶体之方法
摘要 本发明系关于一种处理晶体之方法,在该方法中,当氮化物半导体晶体(1)经处理时,将电压施加于氮化物半导体晶体(1)与工具电极(3)之间以产生放电,使得藉由该放电所产生之局部热而部分移除及处理该晶体。
申请公布号 TW200706291 申请公布日期 2007.02.16
申请号 TW095122213 申请日期 2006.06.21
申请人 住友电气工业股份有限公司 发明人 石桥惠二;八乡昭广;西浦隆幸
分类号 B23H7/08(2006.01) 主分类号 B23H7/08(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本