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发明名称 Chemical Vapor Deposition Apparatus for Multiple Substrates
摘要
申请公布号 KR100674872(B1) 申请公布日期 2007.01.30
申请号 KR20050048023 申请日期 2005.06.03
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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