曝光装置

摘要

本发明揭示一盖体12之一容置室13(一曝光室15)，其中容纳一曝光装置10之一装置主体20，且其藉由来自一空气调节装置之冷却空气而进行空气调节。一光敏材料40被放置在位一于该容置室13中之座台28上，且沿着一扫描方向被输送。自一导管82之一流出口82B吹出而进入该曝光室15内之冷却空气系藉由一气流变向板90而沿着该扫描方向吹送。该容置室13沿着该扫描方向之温度分布藉由此冷却空气而达成一致。可抑制沿着该扫描方向所发生之温度不一致及温度变化之空气调节因此得以实现。