| 主权项 |
1.一种液晶显示器制造设备之流体供应系统,包括: 一整合储存槽之处理槽,包括一处理单元及/或一 储存槽,且该储存槽系整合于该处理槽中; 一流体供应单元,系供应附着于该处理单元中之复 数个基板上,并随着该些基板一并排至该整合储存 槽之处理槽外的流体; 一泵浦,将储存于该整合储存槽之处理槽的中流体 以及从该流体供应单元所供应的流体提供至该处 理单元;以及 复数个管线,将包含有该处理单元的该整合储存槽 之处理槽以及该流体供应单元与该泵浦连接。 2.如申请专利范围第1项所述之液晶显示器制造设 备之流体供应系统,其中该液晶显示器制造设备包 括清洗、蚀刻、显影,或拨除设备。 3.如申请专利范围第1项所述之液晶显示器制造设 备之流体供应系统,其中该整合储存槽之处理槽包 括一第一加热器,以加热流体。 4.如申请专利范围第1项所述之液晶显示器制造设 备之流体供应系统,其中该流体供应单元包括一第 二加热器,以加热所供应之流体维持一恒温。 5.如申请专利范围第1项所述之液晶显示器制造设 备之流体供应系统,其中连接于该泵浦与该整合储 存槽之处理槽之间的该些管线包括复数个阀门、 复数个过滤器、复数个调节阀及/或复数个流量计 。 6.一种液晶显示器制造设备之流体供应系统,包括: 一整合储存槽之处理槽,包括一处理单元及/或一 储存槽,且该储存槽系整合于该处理槽中; 一流体供应单元,系供应附着于该处理单元中之复 数个基板上,并随着该些基板一并排至该整合储存 槽之处理槽外的流体; 一泵浦,将储存于该整合储存槽之处理槽的中流体 以及从该流体供应单元所供应的流体提供至该处 理单元;以及 复数个管线,将包含有该处理单元的该整合储存槽 之处理槽以及该流体供应单元与该泵浦连接,其中 ,该整合储存槽之处理槽包括一主体;一处理单元, 配置于该主体内以进行一预定制程;以及一排出口 ,系将该主体内的流体排出该主体外,且该主体系 由一耐久材质以及披覆于该耐久材质表面上之一 化学物抵抗材质所制成。 7.如申请专利范围第6项所述之液晶显示器制造设 备之流体供应系统,其中该液晶显示器制造设备包 括清洗、蚀刻、显影,或拨除设备。 8.如申请专利范围第6项所述之液晶显示器制造设 备之流体供应系统,其中该整合储存槽之处理槽包 括一第一加热器,以加热流体。 9.如申请专利范围第6项所述之液晶显示器制造设 备之流体供应系统,其中该流体供应单元包括一第 二加热器,以加热所供应之流体维持一恒温。 10.如申请专利范围第6项所述之液晶显示器制造设 备之流体供应系统,其中连接于该泵浦与该整合储 存槽之处理槽之间的该些管线包括复数个阀门、 复数个过滤器、复数个调节阀及/或复数个流量计 。 11.如申请专利范围第6项所述之液晶显示器制造设 备之流体供应系统,其中该化学物抵抗材质包括铁 氟龙。 12.如申请专利范围第6项所述之液晶显示器制造设 备之流体供应系统,其中该化学物抵抗材质系披覆 于该耐久材质的一表面或二表面上。 图式简单说明: 第1图绘示为传统液晶显示器制造设备的流体供应 系统示意图; 第2图绘示为传统流体供应系统更详细的示意图; 第3图绘示为本发明液晶显示器制造设备的流体供 应系统示意图; 第4图绘示为第3图中流体供应系统更详细的示意 图; 第5图绘示为液晶显示器制造设备之流体供应系统 中的处理槽示意图; 第6图绘示为第5图中处理槽的剖面示意图; 第7图绘示为本发明一较佳实施例流体供应系统中 处理槽的局部放大剖面示意图;以及 第8图绘示为本发明另一较佳实施例流体供应系统 中处理槽的局部放大剖面示意图。 |
