| 发明名称 | 制造微芯片的方法和设备 | ||
| 摘要 | 通过使用浸入式光刻来制造微芯片的方法，其中浸液包含添加剂，以使该浸液与不含该添加剂的浸液相比折射率升高。本方法中的曝光光线提高了分辨率，从而获得具有增大集成密度的微芯片。本发明还涉及浸液以及包含该浸液的浸入式光刻设备。 | ||
| 申请公布号 | CN1894631A | 申请公布日期 | 2007.01.10 |
| 申请号 | CN200480037149.1 | 申请日期 | 2004.10.28 |
| 申请人 | 帝斯曼知识产权资产管理有限公司 | 发明人 | 沙哈比·雅罗米;迪特里克·维尼克;莱昂纳德斯·格拉尔杜斯·伯纳德斯·布雷梅尔 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/47(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 李剑 |
| 主权项 | 1.通过使用浸入式光刻来制造微芯片的方法，其特征在于：浸液包含添加剂，以使所述浸液的折射率高于不含所述添加剂的浸液的折射率。 | ||
| 地址 | 荷兰海尔伦 | ||