发明名称 电路板导电凸块结构之制法
摘要 一种电路板导电凸块结构之制法,主要系提供一至少一表面形成有复数电性连接垫之电路板,且于该电路板上覆盖绝缘保护层,且令其形成有外露出该电性连接垫之开口;于该绝缘保护层及开口表面形成一导电层,且于该导电层上电镀形成一金属层;于该金属层上形成一阻层,且该阻层形成有对应于该电性连接垫位置之开口,并于该阻层开口中形成一黏着层;之后移除该阻层及其所覆盖之金属层及导电层,藉以于该电性连接垫上形成供电路板与外界作电性导接之导电凸块结构。
申请公布号 TWI270329 申请公布日期 2007.01.01
申请号 TW094110691 申请日期 2005.04.04
申请人 全懋精密科技股份有限公司 发明人 胡文宏
分类号 H05K3/10(2006.01) 主分类号 H05K3/10(2006.01)
代理机构 代理人 陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项 1.一种电路板导电凸块结构之制法,系包括: 提供一至少一表面形成有复数电性连接垫之电路 板,且于该电路板上覆盖一绝缘保护层,并令该绝 缘保护层形成有复数开口以外露出该电性连接垫; 于该绝缘保护层及开口表面形成一导电层,并于该 导电层上电镀形成一金属层,且使得该金属层填充 于该绝缘保护层开口中; 于该金属层上覆盖一阻层,且令该阻层对应于该电 性连接垫位置处形成有开口以外露出部分金属层; 于该阻层开口中形成一黏着层;以及 移除该阻层及其所覆盖之金属层与导电层,保留该 黏着层下对应于该电性连接垫位置处之部分金属 层及导电层,藉以于该电性连接垫上形成导电凸块 结构。 2.如申请专利范围第1项之电路板导电凸块结构之 制法,其中,该电性连接垫之制程系包括: 于电路板表面绝缘层上形成导电层; 于该导电层上形成阻层,并令该阻层形成有复数个 开口以外露出部分导电层;以及 于该阻层开口中电镀形成电性连接垫。 3.如申请专利范围第2项之电路板导电凸块结构之 制法,复包括移除用以电镀形成该电性连接垫之阻 层及其所覆盖的导电层。 4.如申请专利范围第1项之电路板导电凸块结构之 制法,其中,该附着层黏着层系藉由电镀及涂覆之 其中一者形成于该金属层上。 5.如申请专利范围第1项之电路板导电凸块结构之 制法,其中,该黏着层材质系选自锡、银、金、铜 、镍、铅、铂及其合金其中一者。 6.如申请专利范围第5项之电路板导电凸块结构之 制法,其中,该黏着层系经回焊以完整包覆于该金 属层外露表面。 7.如申请专利范围第1项之电路板导电凸块结构之 制法,其中,该金属层材质系选自铅、锡、银、铜 及其合金所构成群组之其中一者。 8.如申请专利范围第1项之电路板导电凸块结构之 制法,其中,该导电层系为金属材料制成。 9.如申请专利范围第1项之电路板导电凸块结构之 制法,其中,该导电层系为有机高分子材料制成。 10.一种电路板导电凸块结构之制法,系包括: 提供一至少一表面形成有复数电性连接垫之电路 板,且于该电路板上覆盖一绝缘保护层,并令该绝 缘保护层形成有复数开口以外露出该电性连接垫; 于该绝缘保护层及其开口表面形成一导电层,并于 该导电层上电镀形成一金属层,且使该金属层填充 于该绝缘保护层开口中; 于该金属层上覆盖一阻层,并对该阻层进行图案化 ,以使该阻层仅覆盖住对应于该电性连接垫位置处 之部分金属层; 移除未为该阻层所覆盖之金属层及导电层;以及 移除该阻层,且于该金属层外露表面上形成一黏着 层。 11.如申请专利范围第10项之电路板导电凸块结构 之制法,其中,该电性连接垫之制程系包括: 于电路板之表面绝缘层上形成导电层; 于该导电层上形成阻层,且令该阻层形成复数个开 口以外露出部分导电层;以及 于该阻层开口中电镀形成电性连接垫。 12.如申请专利范围第11项之电路板导电凸块结构 之制法,复包括移除用以电镀形成该电性连接垫之 阻层及其所覆盖之导电层。 13.如申请专利范围第10项之电路板导电凸块结构 之制法,其中,该黏着层材质系选自锡、银、金、 铜、镍铅、铂及其合金所构成群组之其中一者。 14.如申请专利范围第10项之电路板导电凸块结构 之制法,其中,该金属层材质系选自铅、锡、银、 铜及其合金所构成群组之其中一者。 15.如申请专利范围第10项之电路板导电凸块结构 之制法,其中,该导电层系为金属材料制成。 16.如申请专利范围第10项之电路板导电凸块结构 之制法,其中,该导电层系为有机高分子材料制成 。 图式简单说明: 第1A图至第1F图系显示习知电路板之电性连接垫上 形成电导电凸块之剖面示意图; 第2A至第2L图为本发明之电路板导电凸块结构之制 法第一实施例之剖面示意图;以及 第3A至第3G图为本发明之电路板导电凸块结构之制 法第二实施例之剖面示意图。
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