| 摘要 |
Procédé d'obtention d'un article transparent exempt de raies de surfaçage visibles, comprenant :- l'obtention d'un substrat en un matériau transparent d'indice de réfraction ns, dont au moins une face principale a été ébauchée et polie à une valeur de Ra variant de 0,001 à 0,01 mum mais qui présente des défauts de surface visibles sous la forme de fines rayures individualisées ;- le dépôt directement sur la face principale ébauchée et polie du substrat d'une composition liquide, polymérisable, de revêtement de masquage présentant un angle de contact avec la face principale du substrat d'au plus 30 degree , et formant par polymérisation un revêtement de masquage ayant un indice de réfraction nc tel que 0,01 < |Ns - nc| <= 0,15, et une épaisseur inférieure à 10 micromètres ;- la polymérisation de la composition de revêtement de masquage ; et- la récupération de l'article transparent. |
