发明名称 | 利用臭氧降低光学薄膜接触角的方法 | ||
摘要 | 本发明为一种利用臭氧降低光学薄膜接触角的方法,该方法是用于液晶显示器偏光板的光学薄膜制程中,该方法主要是一种干式的前处理制程,采用紫外光照射空气中的氧来产生臭氧,利用臭氧的强力氧化能力增加光学薄膜亲水自由基而降低接触角,可减少传统湿式制程花费较大、使用不便的缺点。 | ||
申请公布号 | CN1854765A | 申请公布日期 | 2006.11.01 |
申请号 | CN200510067047.0 | 申请日期 | 2005.04.27 |
申请人 | 力特光电科技股份有限公司 | 发明人 | 郑尧中;施明志;王传恕;巫瑞琪;刘俞君 |
分类号 | G02B1/10(2006.01);G02B5/30(2006.01);G02F1/1335(2006.01);B32B7/00(2006.01) | 主分类号 | G02B1/10(2006.01) |
代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 文琦;陈肖梅 |
主权项 | 1.一种利用臭氧降低光学薄膜接触角的方法,其特征是,将一光学薄膜经由臭氧干式前处理,以增加光学薄膜表面亲水性,降低接触角度。 | ||
地址 | 台湾省桃园县平镇市平东路659巷37号 |