发明名称 |
铝基溅射靶 |
摘要 |
一种主要包含Al的Al基溅射靶的凹面缺陷总数为45000或更少/平方毫米单位表面积,所述的凹面缺陷的最大深度为0.2μm或更大和当量面积直径为0.2μm或更大,所述的单位表面积为相当于溅射面的所述溅射靶表面的单位表面积。另一种Al基溅射靶在该表面上的凹面缺陷总数为15000或更少/平方毫米单位表面积,所述的凹面缺陷的最大深度为0.1μm或更大和当量面积直径为0.5μm或更大。这些溅射靶减少了在它们使用时发生的溅射故障(飞溅和/或弓形)的周期和数量,特别是在它们使用的早期阶段发生的溅射故障(飞溅和/或弓形)的周期和数量。 |
申请公布号 |
CN1847448A |
申请公布日期 |
2006.10.18 |
申请号 |
CN200610073570.9 |
申请日期 |
2006.04.10 |
申请人 |
株式会社神户制钢所 |
发明人 |
高木胜寿;钉宫敏洋;富久胜文 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01);C23C14/14(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
陈平 |
主权项 |
1.一种主要包含Al的Al基溅射靶,其中,在定义为最大深度为0.1μm或更大和当量面积直径为0.2μm或更大的凹面部分的凹面缺陷中,最大深度为0.2μm或更大的凹面缺陷的总数为45000或更少/平方毫米单位表面积,所述的单位表面积为相当于溅射面的所述溅射靶表面的单位表面积。 |
地址 |
日本兵库县 |