| 发明名称 | 图案化磁记录介质、其制造方法、压模及磁记录/再现装置 | ||
| 摘要 | 一种图案化磁记录介质具有形成在基底(11)上的磁记录层(13)和保护层(14)，其中，该磁记录层(13)包括图案化为磁轨的磁性材料(15)和填充在数据区域(33)内的磁轨间的非磁材料(16)，并且具有在距离介质外侧端1mm内的区域(42)中形成并延伸到该介质端部的一凹进部分(32)。该凹进部分(32)被形成为比该数据区域(33)深1到50nm。 | ||
| 申请公布号 | CN1819033A | 申请公布日期 | 2006.08.16 |
| 申请号 | CN200610008960.8 | 申请日期 | 2006.01.26 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 喜喜津哲;镰田芳幸;山本尚之;兵藤浩之 |
| 分类号 | G11B5/66(2006.01);G11B5/84(2006.01);G11B21/21(2006.01) | 主分类号 | G11B5/66(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 杨晓光;李峥 |
| 主权项 | 1、一种图案化磁记录介质，包括形成在基底(11)上的磁记录层(13)和保护层(14)，其中，该磁记录层(13)包括在数据区域(33)中的图案化为多条磁轨的磁性材料(15)和填充在所述各磁轨间的非磁材料(16)，其特征在于：在距离介质外侧端1mm内的区域(42)中形成一凹进部分(32)，并且该凹进部分延伸到该介质端部，并且，该凹进部分(32)比该数据区域(33)深1到50nm。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||