发明名称 |
用于一个外延反应器的反应腔 |
摘要 |
一种改进的用于外延反应器的反应腔(10),反应腔包括一个由绝缘和透明材料例如石英制成的钟形罩(14),一个设有用于承接由要处理的材料制成的晶片(36a-n)的盘形腔(34a-n)并具有一个设置在其上的绝缘和化学阻抗板(40)的衬托(24),以及一个包括多个安装在一个固定在钟形罩(14)的一个上开口(50)上的盖(52)上的出口管件(106a-f)。 |
申请公布号 |
CN1255582C |
申请公布日期 |
2006.05.10 |
申请号 |
CN00802119.8 |
申请日期 |
2000.03.17 |
申请人 |
LPE公司 |
发明人 |
弗兰克·普勒提;温琴佐·奥格里亚里;朱塞佩·塔伦兹 |
分类号 |
C30B25/14(2006.01);C23C16/44(2006.01) |
主分类号 |
C30B25/14(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
孙征 |
主权项 |
1.一种改进的用于外延反应器的反应腔,反应腔包括一个由绝缘和透明材料例如石英制成的钟形罩(14),一个设有用于承接由要处理的材料制成的晶片(36a-n)的盘形腔(34a-n)并具有一个设置在其上的绝缘和化学阻抗板(40)的衬托(24),其特征在于,使用一个由一个盖(52)形成的扩散器(54),盖由一个连接在一个具有多个长度相同的管件(106a-f)的对称环形分散腔(104)上的中心顶件(88)供料,所述管件将盖的所述环形腔(104)连接到紧位于一个颈部(46)之下的钟形罩的一个顶区(42,44)上,颈部将一个上法兰(48)连接到顶区(42,44)上,所述多个管件(106a-f)确保在低速下流量均匀分布;一个在支撑在衬托之上的板(40)之上延伸的钟形罩(14)的圆柱形区,以避免在板(40)和台肩(42)之间的任何干涉;一个钟形罩(14)的较小的内径,以保持钟形罩(14)尽可能地远离衬托(24);以及在衬托(24)的角部上,在其上区,突出的挡板(122a-g)插入形成在所述衬托(24)的主体内的凹部中,所述挡板(122a-g)具有约等于衬托的角部的长度的一半的长度。 |
地址 |
意大利博拉泰 |