| 发明名称 | 喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供一种喷嘴清扫装置以及具备该喷嘴清扫装置的基板处理装置，可降低擦拭部件的消耗量，并可靠地对处理液供应喷嘴进行清扫。喷嘴清扫装置(18)包括：擦拭部(45)和使擦拭部(45)在处理液供应喷嘴(14)上的排出口长度方向往复移动的移动机构，所述擦拭部具备卷绕有长条的擦拭部件(52)的送出辊(53)，卷取擦拭部件(52)的卷取辊(54)，使擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第一清扫机构(57)，以及使在第一清扫机构(57)的作用下用于处理液供应喷嘴(14)的清扫后的擦拭部件(52)抵接在处理液供应喷嘴(14)上的第二清扫机构(58)。 | ||
| 申请公布号 | CN1252798C | 申请公布日期 | 2006.04.19 |
| 申请号 | CN03132661.7 | 申请日期 | 2003.09.30 |
| 申请人 | 大日本屏影象制造株式会社 | 发明人 | 高木善则;水野博喜;清野和昭 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/302(2006.01);B08B3/02(2006.01);B05C5/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张天安;杨松龄 |
| 主权项 | 1.一种喷嘴清扫装置，对通过一边从狭缝状的排出口排出处理液一边相对于基板相对移动，向上述基板的表面上供应处理液的处理液供应喷嘴进行清扫，其特征是，包括：卷绕有长条的擦拭部件的送出辊；卷取从送出辊沿上述处理液供应喷嘴上的排出口的长度方向送出的擦拭部件的卷取辊；使上述卷取辊旋转的旋转机构；第一清扫机构，通过使从上述送出辊送出的擦拭部件抵接在上述处理液供应喷嘴上，对上述处理液供应喷嘴进行清扫；第二清扫机构，在由上述第一清扫机构对上述处理液供应喷嘴进行清扫之前，通过使从上述送出辊送出的擦拭部件上在上述第一清扫机构的作用下和上述处理液供应喷嘴抵接后的区域抵接在上述处理液供应喷嘴上，对上述处理液供应喷嘴进行预备清扫。 | ||
| 地址 | 日本京都府京都市 | ||