一种水热制备Sm<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>薄膜的方法

摘要

一种水热制备Sm₂O₃薄膜的方法，首先将SmCl₃·6H₂O溶解于蒸馏水中，配制成透明溶液；用氨水溶液调节将此溶液的pH值为5.6～5.9，作为镀膜液备用；将上述镀膜液倒入水热釜中，将基片浸入镀膜液中，然后密封水热釜，将水热釜置于160－300℃恒温烘箱中，水热压力控制在2－20MPa，保温24～72小时后自然冷却到室温；打开水热釜，取出基片并置于60－100℃的烘箱内干燥3－24小时后即可以在基板表面获得Sm₂O₃光电薄膜。由于本发明制备Sm₂O₃薄膜反应在液相中一次完成，不需要后期的晶化热处理，从而避免了Sm₂O₃薄膜在热处理过程中可能导致的卷曲、干裂、晶粒粗化以及薄膜与衬底或气氛反应等缺陷，且工艺设备简单，所得膜纯度较高，晶粒生长可控。

主权项

1、一种水热制备Sm2O3薄膜的方法，其特征在于：1)首先将SmCl3·6H2O溶解于蒸馏水中，配制成Sm3+浓度为0.05-0.1mol/L的透明溶液；2)将此溶液在45～55℃加热搅拌，并采用质量百分比为5-10％的氨水溶液调节溶液的pH值，使溶液的PH值为5.6～5.9，搅拌1-3小时后形成均匀溶胶，作为镀膜液备用；3)将上述镀膜液倒入水热釜中，填充度控制在50-80％，将基片浸入镀膜液中，然后密封水热釜，将水热釜置于160-300℃恒温烘箱中，水热压力控制在2-20MPa，保温24～72小时后自然冷却到室温；4)打开水热釜，取出基片并置于60-100℃的烘箱内干燥3-24小时后即可以在基板表面获得Sm2O3光电薄膜。