| 发明名称 | 形成有机绝缘膜的组合物及用其形成有机绝缘膜图案的方法 | ||
| 摘要 | 在此公开了一种用于形成有机绝缘膜的光构图组合物，其中包含：(i)一种含有功能基的单体；(ii)一种在光照下产生酸或自由基的引发剂和(iii)一种有机或无机聚合物。更进一步公开了使用该组合物形成有机绝缘膜图案的方法。根据本发明，由于有机绝缘膜无需任何光致抗蚀剂处理就能简单地构图，故简化了整体的工序，最终能够通过全湿工艺制得具有高电荷迁移率的有机薄膜晶体管。 | ||
| 申请公布号 | CN1734350A | 申请公布日期 | 2006.02.15 |
| 申请号 | CN200510098086.7 | 申请日期 | 2005.06.15 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 慎重汉;李泰雨;具本原;李芳璘;李相润 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03F7/027(2006.01);G03F7/16(2006.01);H01L51/05(2006.01);H01L51/30(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 张平元;赵仁临 |
| 主权项 | 1.一种用于形成有机绝缘膜的组合物，其中含有：(i)一种含功能基的单体，该单体是含有至少一种选自下式1所示的环氧基的化合物：<img file="A2005100980860002C1.GIF" wi="1472" he="366" />或者，是含有至少一种选自下式2所示的可自由基聚合基的化合物：<img file="A2005100980860002C2.GIF" wi="1447" he="416" />其中R是氢或甲基；(ii)一种在光照下产生酸或自由基的引发剂；和(iii)一种有机或无机聚合物。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||